双束显微镜系统
发布时间: 2014-03-27 浏览次数: 220
 

 

 

型号:Zeiss Auriga

设备用途:

通过聚焦离子束的刻蚀和沉积制作纳米图形。用于各种微纳器件和低维纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具,也可用于制备TEM样品和集成电路的失效分析等。主要具有以下功能:一、扫描电子显微镜SEM:各种材料形貌观察和分析;二、能谱分析仪EDS:材料微区成分分析;三、聚焦离子束系统FIB:材料微纳结构的样品制备,样品微观刻蚀与沉积等。

技术指标:

肖特基热场发射电子源(SEM),液态金属Ga离子源(FIB

SEM加速电压:100V 30kV

SEM放大倍率:12X 1000,000X

SEM分辨率:1.0nm 15kV

    1.9nm 1kV

FIB加速电压:1kV 30kV

FIB放大倍率:300X 500,000X

FIB分辨率:2.5nm 15kV