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原理:

在高真空下,电子枪灯丝加热后发射热电子,被加速阳极加速,获得很大的动能轰击到的蒸发材料上,把动能转化成热使蒸发材料加热气化,而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中,使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率,特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。


技术指标:

可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。

蒸镀薄膜种类:Au, Ti, Cr, Ag, Al, Cu, FeNi, AuGe, Pt, Pb, In, Mo, SiO2等

极限真空:5E-8 Torr( 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr )

薄膜均匀性:±4% ( 4英寸 )

装片:小于6英寸的任意规格的样品若干