仪器设备
 
您当前位置: 首页  仪器设备  薄膜沉积  热蒸发

 

点击查看原图

原理:

在高真空下,采用电阻式蒸发原理,利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料,使其在高温下熔化蒸发,从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。


技术指标:

可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。

蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In等

极限真空:2E-7 Torr( 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr )

薄膜均匀性:±4% ( 4英寸 )

装片:小于4英寸的任意规格的样品若干

样品台:带连续旋转,转速 0-20 rpm。在位倾斜角度 -45o - 45o 可调