
型号:Zeiss Auriga
设备用途:
通过聚焦离子束的刻蚀和沉积制作纳米图形。用于各种微纳器件和低维纳米人工结构的制作,是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具,也可用于制备TEM样品和集成电路的失效分析等。主要具有以下功能:一、扫描电子显微镜SEM:各种材料形貌观察和分析;二、能谱分析仪EDS:材料微区成分分析;三、聚焦离子束系统FIB:材料微纳结构的样品制备,样品微观刻蚀与沉积等。
技术指标:
肖特基热场发射电子源(SEM),液态金属Ga离子源(FIB)
SEM加速电压:100V ~ 30kV
SEM放大倍率:12X ~ 1000,000X
SEM分辨率:1.0nm (15kV)
1.9nm (1kV)
FIB加速电压:1kV ~ 30kV
FIB放大倍率:300X ~ 500,000X
FIB分辨率:2.5nm (15kV)