型号：Zeiss Auriga

设备用途：

通过聚焦离子束的刻蚀和沉积制作纳米图形。用于各种微纳器件和低维纳米人工结构的制作，是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具，也可用于制备TEM样品和集成电路的失效分析等。主要具有以下功能：一、扫描电子显微镜SEM：各种材料形貌观察和分析；二、能谱分析仪EDS：材料微区成分分析；三、聚焦离子束系统FIB：材料微纳结构的样品制备，样品微观刻蚀与沉积等。

技术指标：

肖特基热场发射电子源（SEM），液态金属Ga离子源（FIB）

SEM加速电压：100V ～ 30kV

SEM放大倍率：12X ～ 1000,000X

SEM分辨率：1.0nm （15kV）

    1.9nm （1kV）

FIB加速电压：1kV ～ 30kV

FIB放大倍率：300X ～ 500,000X

FIB分辨率：2.5nm （15kV）